[대학저널 신효송 기자] 인하대학교가 교내에 반도체 공정이 가능한 330㎡ 규모의 클린룸을 설치한다. 클린룸 구축으로 산업 현장과 비슷한 수준의 연구와 실습이 가능할 것으로 기대하고 있다.
반도체 공정 클린룸 구축은 LINC⁺ 사회맞춤형학과 중점형 사업(사업단장‧현승균) 가운데 하나이다. 인하대 2호관 공과대학 건물 1층에 들어선다. 6월 완공될 예정이다.
클린룸에는 CMOS(Complementary metal-oxide semiconductor) 반도체 집적소자 제작이 가능한 다양한 장비와 중앙 공급식 설비가 설치된다.
마이크로미터 이하로 패턴 형성이 가능한 노광장비를 비롯해 박막 증착장비, 식각장비 등 반도체공정용 장비 10여 종이 들어선다.
청정도 등급(Cleanliness Class)은 100~1000으로 적용한다. 이는 1제곱피트 당 0.5마이크로미터 이상의 입자가 100~1000개 이하로 제어되는 것을 의미한다. 머리카락 200분의 1 크기 입자를 관리할 수 있다. 다른 대학 클린룸보다 높은 수준의 청정도 관리가 가능하다.
최리노 인하대 반도체공정‧장비전공교수는 “다양한 반도체 공정이 가능한 클린룸 구축은 관련 학과 학생들의 실무 역량을 높여 수도권 반도체 관련 기업의 인력난 해소와 산업 발전에 기여할 것”이라며 “클린룸 구축으로 현장미러형실습센터가 완성되면 해당 분야 연구도 지금보다 더 활발할 것으로 기대한다”고 말했다.
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