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차세대 반도체 소재 원자층증착기술 분야 최고 권위

전형탁 한양대학교 신소재공학부 교수가 차세대 반도체 소재 세계 원자층증착기술(Atomic Layer Deposition:ALD) 분야 최고 권위를 자랑하는 세계원자층증착기술상(ALD Award) 수상자로 선정됐다.

시상식은 지난 17일 일본 교토에서 열린 세계 ALD학회에서 열렸다.

학회 측은 “전 교수는 2001년 ALD학회 창립의 주도적 역할을 한 설립자(founder) 중 한명이며, ALD 분야를 선도하는 연구자로서 큰 공헌을 하고 있다”고 수상 배경을 설명했다.

세계원자층증착기술상은 ALD분야에 큰 공헌을 한 연구자를 기리기 위해 2011년 처음 제정됐으며, 아시아 연구자로서는 처음으로 전 교수가 수상했다.

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