상온에 가까운 저온에서 원하는 기판에 그래핀을 직접 합성하는 신기술이 국내 연구자들의 주도로 개발됐다.

그래핀(Graphene)은 흑연의 표면층을 한 겹만 떼어낸 탄소나노물질로 높은 전기전도성과 전하이동도를 갖고 있다. 이에 따라 응용 가능성이 높아 꿈의 신소재로 불린다. 3일 교육과학기술부(이하 교괴부)에 따르면 권순용 UNIST 교수가 주도하고 곽진성 박사과정생(제1저자), 김성엽 교수, 박기복 교수(이상 UNIST)와 김영운 교수, 윤의준 교수(이상 서울대) 및 수닐 코담바카 교수(美 UCLA)가 참여한 연구를 통해 신기술이 개발됐다.

이번 연구는 교과부와 한국연구재단(이사장 이승종)이 추진하는 일반연구자지원사업(기본연구)과 WCU육성사업 등의 지원으로 수행됐다. 연구결과는 세계 최고 권위의 과학전문지 <네이처>의 자매지인 <Nature Communications>지에 지난 1월 24일자로 게재됐다.

권 교수 연구팀은 지금까지 고온(1000oC)에서 금속기판에 그래핀을 합성한 후 그래핀을 떼어내 원하는 기판에 전사(轉寫)하는 한계를 극복, 상온에 가까운 저온(기존의 1/5, 200oC 이하)에서 원하는 기판에 그래핀을 직접 합성하는 새 기술 개발에 성공했다. 이 기술을 이용하면 어떠한 기판(단단한 산화 실리콘 기판과 유리, 플라스틱 기판 등)에도 그래핀을 직접 만들 수 있는 장점이 있다. 또한 연구팀이 개발한 기술을 이용하면 그래핀의 결정립 크기도 자유자재로 조절할 수 있다.

권 교수는 "이번 연구는 비교적 간단한 장비와 방법으로 저온에서 그래핀을 원하는 기판에 직접 형성하는 기술을 개발한 것"이라면서 "차세대 그래핀 산업에 응용되는 핵심 기술이 될 것으로 기대된다"고 말했다.

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